熱點資訊
聯系方式
- 手機:181-4585-5552
- 電話:0755-82965240
- Q Q:277187808
- 郵箱:alan.liu@szhtt-china.cn
- 地址:深圳市龍華區民治街道民治社區金華大廈1504
國產DRAM內存芯片和三星的技術差距是幾年?
作者:admin 發布時間:2024-02-23 09:13:18 點擊量:
國產DRAM內存芯片和三星的技術差距大約是5年。
具體來說,三星和SK海力士計劃在年底前投產第五代10nm級(1b或者說12nm)內存芯片,而國產DRAM代表企業合肥長鑫今年的打算是第二代10nm(1y或者說16/17nm)。
一般而言,DRAM每一代的演進時間是2年到2年半。按照正常節奏,國產內存芯片有機會進一步縮短與三星的技術差距。然而,目前一個比較棘手的問題是,三星和SK海力士已經引入了EUV(極紫外光刻)設備用于生產更先進的DRAM芯片,而國產企業暫時還無法獲取這一設備。
推薦產品 MORE+
推薦新聞 MORE+
- 雙向氮化鎵 (GaN) 單芯片方案革新電源管理 2025-06-04
- 臺積電的3納米芯片在功耗方面有何改進?2025-06-03
- 深圳合通泰電子有限公司2025年端午放假通知2025-05-28
- 2025英諾賽科代理商大會:新技術發布+政策解讀2025-05-21
- 意法半導體微控制器 提升智能家居能效的關鍵2025-05-20
- INN650TA04在高溫高濕環境下的失效模式2025-05-19