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半導體“超純水”是指在半導體制造過程中使用的具有極高純度的水。這種水通過特殊的處理技術，如蒸餾、去離子化、反滲透等方法生產出來，以確保其電阻率極高，達到或接近18.3mω*cm（25℃）的極限值。超純水的主要特點是幾乎不含任何導電介質、不離解的膠體物質、氣體及有機物，因此具有極高的純度和清潔度。

在半導體行業中，超純水的應用非常廣泛，包括晶圓沖洗、化學稀釋、化工機械研磨、潔凈室環境的加濕等多種場合。超純水的質量直接影響到半導體產品的良品率，因為半導體晶圓在加工過程中會暴露于超純水中，超純水中的微粒子、氣泡（溶解氧，溶解氮）和總有機碳（TOC）等指標對半導體元器件生產過程的產品質量和合格率有著重要影響。

隨著半導體產業的發展，對超純水的要求也在不斷提高。先進的超純水技術不僅能夠提升半導體工藝的進步，還成為半導體制造過程的關鍵保障之一。此外，全球芯片半導體產業的競爭也與半導體超純水密切相關，超純水的純度是確保高效生產的基石之一。

半導體“超純水”是一種用于半導體制造過程中，具有極高純度和清潔度的特殊水質，其質量直接關系到半導體產品的質量和生產效率。